Comment le choix du matériau cible dans une machine de revêtement sous vide affecte-t-il l'adhérence, la durabilité et les propriétés de surface du revêtement ?
Jan 26,2026
Comment la machine de revêtement de moules garantit-elle une épaisseur de revêtement constante sur des géométries de moules complexes et des cavités profondes ?
Jan 19,2026
Comment la machine de revêtement ionique multi-arc contrôle-t-elle le taux de dépôt et l’uniformité de l’épaisseur du film sur des géométries complexes ?
Jan 12,2026 Le PVD est l'abréviation du dépôt physique de vapeur (dépôt physique de vapeur). Il se réfère à la pratique de l'utilisation de la technologie de décharge d'arc à basse tension et à haut courant pour vaporiser le matériau cible et ioniser à la fois le matériau évaporé et le gaz dans des conditions de vide. En utilisant l'accélération du champ électrique, le matériau évaporé et ses produits de réaction sont déposés sur la pièce.
La technologie PVD (dépôt physique de vapeur) est principalement divisée en trois types: revêtement d'évaporation sous vide, revêtement de pulvérisation sous vide et revêtement d'ions à vide.
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