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Le matériau de base du revêtement PVD doit être conductivité électrique, la résistance à la chaleur supérieure à 70 ℃, le gaz ne sera pas libéré.
Lorsque 2 et 3 substrats sont plaqués, l'épaisseur de la couche de revêtement hydroélectrique (Cu-Ni libre - CR) est de 30 ~ 50UM, puis la couche de revêtement à vide est de 0,3 ~ 0,5UM
L'épaisseur du film de revêtement à vide est de 2 ~ 3um lorsqu'elle est directement enrobée sur 1 substrat.
4. verre, céramique
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