Quel est le principe de travail de la machine à revêtement à vide？

Dans le domaine du revêtement, l'épaisseur de l'échantillon de film après revêtement est un facteur important affectant les performances du film. Par conséquent, lors de l'évaluation des performances d'un échantillon de film, il est nécessaire de tester les performances de l'échantillon de film sous différentes épaisseurs. Dans le cas du revêtement à vide, cela nécessite souvent plusieurs préparations d'échantillons. Cependant, il y a deux problèmes pour préparer des échantillons à plusieurs reprises: premièrement, l'état de l'instrument est différent pour les échantillons cultivés à des moments différents, de sorte que le facteur qui affecte les performances de l'échantillon de film peut non seulement être l'épaisseur; Deuxièmement, l'échantillon doit être à nouveau aspiré dans l'expérience de revêtement sous vide. L'obtention est très longue. Augmentez le coût de la production et des tests.

Par conséquent, un système de revêtement multifonctionnel de la pulvérisation de magnétron est fourni. Ce système est intégré par un système de revêtement à vide et un système de boîte à gants. Il peut terminer l'évaporation à couches minces dans une chambre d'évaporation à vide élevée et a un gaz inerte de haute pureté dans la boîte à gants. Le stockage et la préparation des échantillons et la détection des échantillons après évaporation sont effectués dans une atmosphère. The combination of evaporation coating and glove box realizes the fully enclosed production of evaporation, encapsulation, testing and other processes, so that the entire film growth and device preparation process is highly integrated in a complete controllable environment atmosphere system, eliminating the organic large-area circuit preparation process The influence of unstable factors in the atmospheric environment guarantees the preparation of high-performance, large-area organic optoelectronic devices and circuits.

L'objectif principal du système de revêtement multifonctionnel de la pulvérisation de magnétron: utilisé pour préparer divers films métalliques, films semi-conducteurs, films diélectriques, films magnétrons, films optiques, films supraconducteurs, films de détection et divers films fonctionnels spéciaux.