Quels facteurs affecteront les performances de revêtement de la machine à revêtement à vide?

Quels facteurs affecteront les performances de revêtement de machine à revêtement à vide ?

Si une machine à revêtement à vide veut enrober un bon film, elle doit s'assurer que de nombreux facteurs sont dans un état normal, tels que le revêtement sous vide, la distance cible de base, la température d'évaporation, la température du substrat, la pression résiduelle du gaz et d'autres facteurs. Il y a une déviation dans un certain facteur. Il affectera les performances de la couche de revêtement de la machine à revêtement à vide. Ce qui suit est un éditeur de vide pour expliquer en détail quels facteurs affecteront les performances de revêtement de la machine à revêtement à vide. J'espère que cela peut vous aider:

1. Taux d'évaporation

La taille du taux d'évaporation a une grande influence sur le film déposé. Étant donné que la structure de revêtement formée par le faible taux de dépôt est lâche et facile à déposer de grandes particules, afin d'assurer la compacité de la structure de revêtement, il est très sûr de choisir un taux d'évaporation plus élevé. Lorsque la pression du gaz résiduel dans la chambre à vide est constante, le taux de bombardement de bombardement du substrat est une valeur constante. Par conséquent, après avoir sélectionné un taux de dépôt plus élevé, le gaz résiduel contenu dans le film déposé sera réduit, réduisant ainsi la réaction chimique entre les molécules de gaz résiduelles et les particules du matériau du film évaporé. Par conséquent, la pureté du film déposé peut être améliorée. Il convient de noter que si le taux de dépôt est trop élevé, il peut augmenter la contrainte interne du film, entraînant une augmentation des défauts de la couche de film, et même la fissuration de la couche de film dans des cas graves. En particulier, dans le processus d'évaporation réactive, un taux de dépôt inférieur peut être sélectionné afin de permettre au gaz de réaction et que les particules de matériau du film évaporé réagissent suffisamment. Bien sûr, différents taux d'évaporation doivent être utilisés pour différentes évaporation des matériaux. À titre d'exemple pratique de la façon dont un faible taux de dépôt peut affecter les performances d'un film est le dépôt d'un film réfléchissant. Par exemple, lorsque l'épaisseur du film est de 600x10-8 cm et que le temps d'évaporation est de 3S, la réflectivité est de 93%. Cependant, si le taux d'évaporation est ralenti sous la même épaisseur de film, il faut 10 min pour terminer le dépôt de film. À ce moment, l'épaisseur du film est la même. Cependant, la réflectivité est tombée à 68%.

2. Température du substrat

La température du substrat a également un effet important sur le revêtement évaporatif. Les molécules de gaz résiduelles adsorbées sur la surface du substrat à des températures élevées du substrat sont facilement éliminées. En particulier, l'exclusion des molécules de vapeur d'eau est plus importante. De plus, il n'est pas seulement facile de favoriser la transition de l'adsorption physique à l'adsorption chimique à une température plus élevée, augmentant ainsi la force de liaison entre les particules. De plus, la différence entre la température de recristallisation des molécules de vapeur et la température du substrat peut être réduite, réduisant ou éliminant ainsi la contrainte interne sur l'interface film-substrat. De plus, comme la température du substrat est liée à l'état cristallin du film, les revêtements amorphes ou microcristallins ont tendance à se former facilement dans des conditions de chauffage faibles ou non sur le substrat. Inversement, lorsque la température est plus élevée, il est facile de générer un revêtement cristallin. L'augmentation de la température du substrat est également bénéfique pour l'amélioration des propriétés mécaniques du revêtement. Bien sûr, la température du substrat ne doit pas être trop élevée pour éviter la réévaporation du revêtement évaporé.

3. Influence de la pression résiduelle du gaz dans la chambre à vide sur la performance du film

La pression du gaz résiduel dans la chambre à vide a une grande influence sur les performances de la membrane. Si la pression est trop élevée, les molécules de gaz résiduelles ne sont pas seulement faciles à entrer en collision avec les particules évaporées, de sorte que l'énergie cinétique des personnes qui tire sur le substrat soit réduite, ce qui affecte l'adhésion du film. De plus, une pression de gaz résiduelle excessive affectera sérieusement la pureté de la membrane et réduira les performances du revêtement.

4. L'effet de la température d'évaporation sur le revêtement d'évaporation

L'effet de la température d'évaporation sur les performances du film est montré par le taux d'évaporation en fonction de la température. Lorsque la température de vaporisation est élevée, la chaleur de vaporisation diminuera. Si le matériau du film est évaporé au-dessus de la température d'évaporation, même un léger changement de température peut entraîner un changement rapide du taux d'évaporation du matériau du film. Par conséquent, il est très important de contrôler précisément la température d'évaporation pendant le dépôt du film pour éviter un grand gradient de température lorsque la source d'évaporation est chauffée. Pour le matériel cinématographique facile à sublime, le matériel de film lui-même est sélectionné comme chauffage et des mesures telles que l'évaporation sont également très importantes. .

Les quatre aspects ci-dessus sont les facteurs communs affectant les performances de la couche de revêtement de la machine à revêtement à vide, et ce sont également les facteurs d'influence conventionnels. Pendant le processus de revêtement de la machine à revêtement à vide, il est nécessaire de s'assurer que ces facteurs sont dans un état normal.