Machine de revêtement à vide de pulvérisation de magnétron

Machine de revêtement à vide de pulvérisation de magnétron

Un système de revêtement à vide de pulvérisation de magnétron utilise des ions à haute énergie pour déposer une fine couche de matériau sur un substrat. Le processus est rapide et peu coûteux et produit un revêtement de haute pureté. Les ions à haute énergie sont libérés à partir d'un matériau source et entrent en collision avec un gaz inerte, comme l'argon. Ces ions produisent un plasma et les atomes du matériau source sont éjectés.

La machine à couler à l'aspirateur de la pulvérisation magnétron est couramment utilisée dans la fabrication de bijoux. Ses conceptions rotatives et stationnaires peuvent être facilement ajustées pour répondre à une grande variété d'exigences de revêtement. Cette machine convient à l'enrobage de tout substrat métallique ou non métallique. Il peut également être utilisé pour enrober le plastique, la céramique et le verre cristallin. Ses caractéristiques haut de gamme incluent une bonne uniformité et des taux de dépôt rapides.

Un système de revêtement à vide de pulvérisation de magnétron est un outil puissant et polyvalent pour la production à haut volume. Selon les besoins et l'application, cette technique peut créer des films minces avec une large gamme de propriétés souhaitées. Différents systèmes d'alimentation, matériaux et gaz peuvent être utilisés pour optimiser le processus. Avant le début du processus, le substrat est monté dans le support. Le support passe ensuite à travers une chambre de verrouillage de charge pour l'empêcher de se déplacer.

Ce système de revêtement à vide est une méthode à faible coût qui produit des revêtements de haute qualité avec un pourcentage élevé de taux de réussite. Il est idéal pour l'aviation et la fabrication électronique haut de gamme. Il peut également être utilisé pour le placage en alliage et les films en métal composite. Il s'agit d'un moyen économique et efficace de recouvrir de nombreux types de matériaux.

Un système de revêtement à vide de la pulvérisation de magnétron utilise une source de pulvérisation qui tire parti de l'emprisonnement électronique. Les aimants piègent les électrons à la surface de la cible, entraînant une densité de plasma plus élevée et des taux de dépôt plus élevés. Contrairement aux méthodes de pulvérisation conventionnelles, cette technique est sûre et ne cause pas de dommages à l'objet de revêtement.

Le gaz de pulvérisation utilisé dans le processus est une considération importante. Le type de gaz à utiliser dépend du poids atomique du substrat. Par exemple, les matériaux plus légers bénéficient de l'utilisation du néon ou du xénon. Si la chambre contient de l'oxygène, le processus sera réactif.

Le processus de pulvérisation consiste à exposer le matériau cible aux gaz réactifs. Ces gaz réagissent avec le matériau cible et créent un composé moléculaire. Le matériau est ensuite déposé comme un revêtement en film mince. Par exemple, lorsqu'une cible de silicium est pulvérisée de manière réactive avec de l'oxygène ou de l'azote, il produit de l'oxyde de silicium ou du nitrure de silicium. Cette méthode est souvent utilisée pour recouvrir plusieurs matériaux simultanément.

Machine de revêtement de pulvérisation de magnétron

Les revêtements multi-arc et les revêtements de pulvérisation peuvent être déposés dans une large gamme de couleurs. Le plan des couleurs peut être encore amélioré en introduisant des gaz réactifs dans la chambre pendant le processus de dépôt. Les gaz réactifs largement utilisés pour les revêtements décoratifs sont l'azote, l'oxygène, l'argon ou l'acétylène. Les revêtements décoratifs sont produits dans une certaine gamme de couleurs, selon le rapport métal / gaz dans le revêtement et la structure du revêtement. Ces deux facteurs peuvent être modifiés en modifiant les paramètres de dépôt.

Avant le dépôt, les pièces sont nettoyées afin que la surface soit exempte de poussière ou d'impuretés chimiques. Une fois que le processus de revêtement a commencé, tous les paramètres de processus pertinents sont surveillés et contrôlés en continu par un système de contrôle automatique automatique.

• Matière de substrat: verre, métal (acier au carbone, acier inoxydable, laiton), céramique, plastique, bijoux.

• Type de structure: structure verticale, # 304 en acier inoxydable.

• Film de revêtement: film métallique multifonctionnel, film composite, film conducteur transparent, film croissant de réflectance, film de blindage électromagnétique, film décoratif.

• Couleur du film: multi-couleurs, noir pistolet, couleur dorée en titane, couleur dorée rose, couleur en acier inoxydable, couleur violette, noir foncé, bleu foncé et autres couleurs plus.

• Type de film: Tin, CRN, ZRN, Ticn, Ticrn, Tinc, Tialn et DLC.

• Consommables en production: titane, chrome, zirconium, fer, cible en alliage; cible plane, cible cylindrique, cible jumelle, cible opposée.