Quel est le principe de fonctionnement de la machine de revêtement sous vide ?

Dans le domaine du revêtement, l'épaisseur de l'échantillon de film après revêtement est un facteur important affectant les performances du film. Par conséquent, lors de l'évaluation des performances d'un échantillon de film, il est nécessaire de tester les performances de l'échantillon de film sous différentes épaisseurs. Dans le cas du revêtement sous vide, cela nécessite souvent plusieurs préparations d'échantillons. Cependant, la préparation d'échantillons à plusieurs reprises pose deux problèmes : premièrement, l'état de l'instrument est différent pour les échantillons cultivés à des moments différents, de sorte que le facteur qui affecte les performances de l'échantillon de film peut ne pas être uniquement l'épaisseur ; deuxièmement, l'échantillon doit être à nouveau aspiré dans l'expérience de revêtement sous vide. L'obtention prend beaucoup de temps. Augmenter le coût de production et de test.

Par conséquent, un système de revêtement par pulvérisation magnétron multifonctionnel est proposé. Ce système est intégré par un système de revêtement sous vide et un système de boîte à gants. Il peut compléter l'évaporation en couche mince dans une chambre d'évaporation sous vide poussé et contient un gaz inerte de haute pureté dans la boîte à gants. Le stockage et la préparation des échantillons ainsi que la détection des échantillons après évaporation sont réalisés en atmosphère. La combinaison du revêtement par évaporation et de la boîte à gants réalise la production entièrement fermée d'évaporation, d'encapsulation, de test et d'autres processus, de sorte que l'ensemble du processus de croissance du film et de préparation du dispositif est hautement intégré dans un système complet d'atmosphère à environnement contrôlable, éliminant la grande surface organique processus de préparation des circuits L'influence des facteurs instables de l'environnement atmosphérique garantit la préparation de dispositifs et de circuits optoélectroniques organiques de grande surface et performants.

L'objectif principal du système de revêtement de pulvérisation magnétron multifonctionnel : utilisé pour préparer divers films métalliques, films semi-conducteurs, films diélectriques, films magnétron, films optiques, films supraconducteurs, films de détection et divers films fonctionnels spéciaux.