L'alimentation CC refroidie par l'eau avec une structure compacte peut obtenir la meilleure qualité de revêtement, afin qu'il puisse remplacer l'alimentation d'impulsion dans le processus de pulvérisation du magnétron.
Caractéristiques:
• Le système raccourcit considérablement le temps de réaction et l'énergie résiduelle de l'arc réduit à un taux minimum
• Même dans le taux d'arc élevé du processus, il peut garantir que le film est mince et homogène.
• Énergie résiduelle à arc extrêmement faible, récupération rapide
• Applications avancées de pulvérisation DC
• Pour obtenir une puissance élevée dans une structure compacte
• Alimentation à eau refroidie
Avantage client:
• Améliorer considérablement l'efficacité de la production
• Qualité de film haute performance
• Alimentation encore plus de 40 kW et l'intégration du système également très pratique
• Stabilité du système élevé et coût à faible entretien

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